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第155章 士气爆棚[1/3页]

　　黑洞光刻机公司。

　　蒲伟才需要卫明帮忙加工的零件，主要跟光学镜头相关。

　　尤其是涂在光学镜头表面的那层反光膜材料，要求纯度达到8个九以上。

　　但国内相关的材料公司，只能做到4个九的纯度，还差四个量级。

　　为提高反光效率，卫明只能利用小黑吸收杂质，提纯材料，使其纯度无限接近100%。

　　但这样慢工出细活，一个一个的消除杂质分子，一天也提纯不了多少。

　　后面科学家想到了一个巧妙办法，那就是把反光膜材料，溶于某种有机溶液中，大部分杂质则不能溶解，于是就把杂质析了出来，再加热特殊有机溶液，析出纯度更高的反光膜材料。书楼吧

　　如此反复操作几次，反光膜材料的纯度，能提高到11个九以上，要比国外材料还高出三个量级——这便是暴龙EUV的能量利用率，为什么能高出三倍还多的原因。

　　不过特殊有机溶液经过多次的使用之后，其本身纯度会有所下降，进而影响反光膜材料的纯度，必须对特殊有机溶液进行提纯操作。

　　这就需要制作一种特殊的分子筛，孔径极小，只允许有机溶液分子通过，其它分子一个都通过不了，纯度甚至达到理论层面的100%。

　　故而要想解决掉反光膜纯度问题，卫明得制作一批有机溶液分子筛，利用小黑钻出一个个小孔。

　　由于分子筛小孔的直径刚好在1纳米左右，以前卫明需要精准操控，一天顶多打下100亿个孔。

　　但现在视界的范围刚好为1纳米，只要关闭引力半径，再闭着眼的疯狂打孔即可，短短十分钟便打下了1万亿个孔。

　　效率提升了万倍不止。

　　仅仅两个小时，他就制造出了足够数量的分子筛。

　　高精尖领域做的很多事情其实就是如此。

　　需要数百种接近100%纯度的化学材料。

　　需要数万个误差接近0的零件。

　　需要表面无限贴近某个数学公式的镜片曲率变化规律。

　　甚至冷却光刻机所用的水，也必须是没有任何杂质的100%纯水，让光刻机的冷却性能，保持线性稳定，不受杂质影响。

　　以及某些子系统的工作环境，最好是没有一

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